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M2測量系統(自動化 M² 載物臺) M2DU-200-WCD
產品簡介
product
產品分類| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組成要素 | 半導體激光器產品及設備 | 產地類別 | 進口 |
| 應用領域 | 化工,建材/家具,電子/電池 |
DataRay基于模塊化的系統為用戶提供了靈活性很強的M2 測量系統。支持選擇最佳 M2 測量配置：基于相機或基于狹縫掃描的系統、鏡頭可選擇50或 200毫米長平移臺。
M2測量系統 M2DU-200-WCD,M2測量系統 M2DU-200-WCD為什么關心 M2
它是激光器或激光系統的交付質量保證或驗收標準。
您需要了解為什么實際“聚焦"的激光光斑直徑比計算預測的要大。
您需要測量 M2，和/或有人給您一份 ISO 11146 標準。
因為 M2 是通過良好光學系統傳播的激光束的不變屬性。 因此，M2 可用于描述該光學系統中任意點的光束。 （*光學系統既不會扭曲也不會縮短光束。）
M2 或光束質量因子是一個無量綱參數，用于表征實際激光束的缺陷程度。 M2 的值越低，光束可以越緊密地聚焦到一個小點上。 良好的 TEM00 光束的 M2 = 1。
沒有任何激光束是“wan美的"。 激光腔、激光介質和/或輸出/輔助光學器件的局限性意味著大多數光束不是教科書中描述的衍射限制、高斯分布、純TEM00 模式。 復雜光束包含多種增加M2的因素。 即使是“理想的"的實驗室氦氖激光器的M2大約1.05 到1.2，而不是“wan美"TEM00 光束的1.0。
簡單的 M2 可以定義為： 實際光束的發散度與具有相同腰部直徑的理論衍射極限光束的發散度之比。
M2 = (Θ/θ) 其中 Θ是實際光束的實測遠場全角發散角，θ是“wan美"TEM00 高斯光束的理論遠場發散角，其束腰直徑與被測光束。
DataRay 提供成像相機和狹縫掃描系統來測量M2、發散度、光束輪廓、光束位置、瑞利范圍等。
? BeamR'2 和 WinCamD 輪廓相機結合線性平臺移動，通過束腰位置以執行符合 ISO 11146 的測量。
? BeamMap2 通過多平面掃描系統提供實時 M2。
移動平臺上符合 ISO 11146 標準的單平面測量系統
ISO 11146 標準要求測量光束腰部的多個平面 (≥5) 和遠場中的多個平面 (≥5) 的二次矩光束直徑。
在大多數情況下，這需要單個平面光束分析儀通過一個Z平臺沿傳播軸移動。
DataRay 基于模塊化的系統為用戶提供了 靈活性很強的M2 測量。 電子表格支持選擇最佳 M2 測量配置：基于相機或基于狹縫掃描的系統、鏡頭選擇50 或 200 毫米長平移臺。
WinCamD™ 相機提供最靈活的成像系統，可以在脈沖和連續波束上測量非常廣泛的 M2。 波長從 190 nm 到 1350 nm，傳感器尺寸為 11.3 x 11.3 mm，像素尺寸小至 3.2 µm。
Beam’R2™ 是一種高分辨率 (0.1 µm) 單平面掃描系統，具有從 190 nm 到 2.5 µm 的多種波長選項以及用于測量 M2、發散度、瑞利范圍等的配置選項。
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